2月3日盤后消息，光刻膠概念報(bào)跌，捷捷微電（39.4，-5.26，-11.778%）領(lǐng)跌，上海新陽(yáng)(41.51，-5.22，-11.171%)、南大光電(29.42，-3.6，-10.902%)、晶方科技(68.03，-7.56，-10.001%)、東方材料(43.21，-4.8，-9.998%)等跟跌。

　　光刻膠概念利好的股票有：

　?。?）、蘇大維格：公司是國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的微納結(jié)構(gòu)產(chǎn)品制造和技術(shù)服務(wù)商，通過(guò)自主研發(fā)微納光學(xué)關(guān)鍵制造設(shè)備——光刻機(jī)，建立了微納光學(xué)研發(fā)與生產(chǎn)制造的基礎(chǔ)技術(shù)平臺(tái)體系，為客戶提供不同用途微納光學(xué)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、開(kāi)發(fā)與制造服務(wù)。

　?。?）、勝利：2019年11月8日公司在互動(dòng)平臺(tái)稱:公司參股的科華微電子是國(guó)內(nèi)擁有并正常使用荷蘭ASML光刻機(jī)的光刻膠公司。

　?。?）、金力泰：超微弧氧化技術(shù)可應(yīng)用于光刻機(jī)設(shè)備零部件的表面處理與其他半導(dǎo)體芯片集成電路的表面處理上。

　　數(shù)據(jù)僅參考，不構(gòu)成投資建議，據(jù)此操作，風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。