【閱讀提示：本周推出“芯片”專(zhuān)題，八篇文章講透芯片板塊，歡迎持續(xù)關(guān)注。下周將推出“投資常識(shí)”專(zhuān)題，敬請(qǐng)期待。】

2023年6月30日，日本的產(chǎn)經(jīng)新聞報(bào)道，日本政府決定加強(qiáng)對(duì)出口韓國(guó)的三種半導(dǎo)體生產(chǎn)材料的管制，包括高純度氟化氫、Photo Resist（光刻膠、感光液）、聚酰亞胺。這張限制令，在中美科技攻防和華為芯片受限的背景下，在國(guó)內(nèi)引起了很大的回響，光刻膠這個(gè)非常小眾的行業(yè)受到極大的關(guān)注。

光刻膠是什么

光刻工藝約占整個(gè)芯片制造成本的35%，耗時(shí)占整個(gè)芯片工藝的40%~60%，是半導(dǎo)體制造中最核心的工藝，而光刻膠是光刻工藝環(huán)節(jié)需要使用的一種非常關(guān)鍵的材料（見(jiàn)圖1）。

按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品（光引發(fā)劑和樹(shù)脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類(lèi)。

光刻膠是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對(duì)光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，其中曝光是通過(guò)紫外光、電子束、準(zhǔn)分子激光束、X射線(xiàn)、離子束等曝光源的照射或輻射，從而使光刻膠的溶解度發(fā)生變化。

以半導(dǎo)體光刻膠為例，在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經(jīng)過(guò)曝光（改變光刻膠溶解度）、顯影（利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分）與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，形成與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形。

光刻技術(shù)隨著集成電路集成度的提升而不斷發(fā)展。為了滿(mǎn)足集成電路對(duì)密度和集成度水平的更高要求，半導(dǎo)體用光刻膠通過(guò)不斷縮短曝光波長(zhǎng)以提高極限分辨率，世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級(jí)別，光刻膠的波長(zhǎng)由紫外寬譜逐步至g線(xiàn)（436nm）、i線(xiàn)（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進(jìn)的EUV（<13.5nm）線(xiàn)水平。

目前，半導(dǎo)體市場(chǎng)上主要使用的包括 g 線(xiàn)、i 線(xiàn)、KrF、ArF四類(lèi)光刻膠，其中，g線(xiàn)和i線(xiàn)光刻膠是市場(chǎng)上使用量最大的。KrF和ArF光刻膠核心技術(shù)基本被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷。

攻克光刻膠道阻且長(zhǎng)

光刻膠的壁壘主要是由技術(shù)和市場(chǎng)兩大壁壘共同造就的。

首先，光刻膠作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料，扮演著極其重要的角色，甚至可以和光刻機(jī)相媲美，但市場(chǎng)規(guī)模卻很小。在整個(gè)晶圓材料市場(chǎng)中（見(jiàn)表1），光刻膠及配套試劑占比為13%，2023年預(yù)計(jì)全球市場(chǎng)規(guī)模僅有48.23億美元，國(guó)內(nèi)預(yù)計(jì)為8.92億美元，不及一家大型IC設(shè)計(jì)企業(yè)的年?duì)I收，行業(yè)成長(zhǎng)空間有限，自然進(jìn)入的企業(yè)就少。

同時(shí)，光刻膠又是一個(gè)具有極高技術(shù)壁壘的產(chǎn)業(yè)。光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復(fù)雜等特征，還需要相應(yīng)光刻機(jī)與之配對(duì)調(diào)試。一般情況下，一個(gè)芯片在制造過(guò)程中需要進(jìn)行10~50道光刻過(guò)程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過(guò)程對(duì)光刻膠的具體要求也不一樣，即使類(lèi)似的光刻過(guò)程，不同的廠商也會(huì)有不同的要求。由于不同的客戶(hù)會(huì)有不同的應(yīng)用需求，同一個(gè)客戶(hù)也有不同的光刻應(yīng)用需求。導(dǎo)致光刻膠的種類(lèi)極其繁雜，必須通過(guò)調(diào)整光刻膠的配方，滿(mǎn)足差異化應(yīng)用需求，這也是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。從這一點(diǎn)可以看出，光刻膠技術(shù)的進(jìn)步離不開(kāi)密切的產(chǎn)業(yè)協(xié)同，離不開(kāi)光刻膠廠商和下游芯片制造商之間的研發(fā)協(xié)同。此外，光刻膠要有極好的穩(wěn)定性和一致性，如果質(zhì)量稍微出點(diǎn)問(wèn)題，損失將會(huì)是巨大的。歷史上曾發(fā)生過(guò)臺(tái)積電因?yàn)楣饪棠z的原因?qū)е戮A污染，報(bào)廢十萬(wàn)片晶圓，直接導(dǎo)致5.5億美元的賬面損失。上述兩個(gè)原因?qū)е鹿饪棠z廠商和下游芯片制造商之間是強(qiáng)鎖定，下游芯片制造商很難更換光刻膠供應(yīng)商。最后，經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展，光刻膠已經(jīng)是一個(gè)相當(dāng)成熟且固化的產(chǎn)業(yè)。2023年光刻膠的專(zhuān)利出現(xiàn)井噴，2023年之后，相關(guān)專(zhuān)利的申請(qǐng)已經(jīng)開(kāi)始銳減。目前從專(zhuān)利申請(qǐng)量來(lái)看，富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)3家日本龍頭公司合計(jì)申請(qǐng)了行業(yè)80%以上的專(zhuān)利。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)機(jī)會(huì)及相關(guān)A股上市公司盤(pán)點(diǎn)

前文我們介紹了很多國(guó)內(nèi)發(fā)展光刻膠面臨的市場(chǎng)和技術(shù)壁壘，但另一方面，國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)也迎來(lái)了難得的發(fā)展機(jī)遇。這個(gè)發(fā)展機(jī)遇主要體現(xiàn)在以下三個(gè)方面：一是隨著芯片的廣泛滲透，晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)提速，帶動(dòng)對(duì)光刻膠等晶圓材料的需求；二是市場(chǎng)對(duì)芯片更好的性能、更高的容量需求推動(dòng)芯片及其制造工藝的技術(shù)升級(jí)，進(jìn)而帶來(lái)光刻膠等材料的升級(jí)需求；三是因芯片制造的卡脖子問(wèn)題，導(dǎo)致光刻膠等關(guān)鍵材料的國(guó)產(chǎn)化要求加速，國(guó)內(nèi)芯片制造商有很強(qiáng)的動(dòng)機(jī)和國(guó)內(nèi)的光刻膠廠商聯(lián)合攻克光刻膠等晶圓材料的供給問(wèn)題。因此，國(guó)內(nèi)光刻膠廠商迎來(lái)了一個(gè)難得的發(fā)展機(jī)遇期。

A股與光刻膠相關(guān)的上市公司主要有5家，分別是彤程新材（603650.SH）、晶瑞電材（300655.SZ）、上海新陽(yáng)（300236.SZ）、雅克科技（002409.SZ）、南大光電（300346.SZ）。彤程新材控股北京科華和北旭電子，這兩家公司是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠和顯示材料光刻膠的領(lǐng)先企業(yè)，其中北京科華是唯一被SEMI（國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)）列入全球光刻膠八強(qiáng)的中國(guó)光刻膠公司，擁有KrF（248nm）、g線(xiàn)、i線(xiàn)、半導(dǎo)體負(fù)膠、封裝膠等產(chǎn)品，是中國(guó)大陸銷(xiāo)售額最高的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠公司，KrF 光刻膠國(guó)家02專(zhuān)項(xiàng)的承擔(dān)單位?？迫A也是國(guó)內(nèi)唯一可以批量供應(yīng)KrF光刻膠給本土8寸和12寸晶圓廠的企業(yè)。

投資者在研判A股光刻膠上市公司的基本面情況時(shí)，建議關(guān)注以下幾個(gè)方面的情況：一是該公司和國(guó)內(nèi)外晶圓大廠的合作情況，包括合作的產(chǎn)線(xiàn)、合作的進(jìn)度（試制還是量產(chǎn)）；二是該公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)、研發(fā)投入以及專(zhuān)利獲取情況，尤其需關(guān)注在歐美發(fā)達(dá)國(guó)家的專(zhuān)利獲取情況；三是光刻膠業(yè)務(wù)的營(yíng)收規(guī)模和利潤(rùn)情況。

【注：市場(chǎng)有風(fēng)險(xiǎn)，投資需謹(jǐn)慎。在任何情況下，本訂閱號(hào)所載信息或所表述意見(jiàn)僅為觀點(diǎn)交流，并不構(gòu)成對(duì)任何人的投資建議?！?

本文由“蘇寧金融研究院”原創(chuàng)，作者為蘇寧金融研究院投資策略研究中心主任顧慧君。